1、柱壓升高
   色譜柱入濾片被流動相或樣品中顆粒堵住。樣品組分在濾片上沉淀堵住濾片。 卸下入口接頭的濾片，使用1：1的硝酸溶液超聲清洗5min，再用水、甲醇清洗除去水份。樣品及流動相使用0．45µm濾膜除去微量雜質(zhì)。使用流動相作溶劑配制樣品。
2、新柱柱效低
   柱外死體積大.樣品在流動相中溶解不好，影響傳質(zhì)過程。 更換連接管，重新連接色譜柱，降低死體積。使用合適的流動相或使用流動相溶解樣品。 
3、舊色譜柱柱效低，分離不好，柱入口床層塌陷。
   填料被流動相溶蝕而流失。 用同型填料填補(bǔ)柱效可部分恢復(fù)。對硅膠質(zhì)填料，流動相PH值在2—7范圍內(nèi)，否則可能被溶蝕。 
4、舊色譜柱柱效低分離不好，有時(shí)出現(xiàn)雙峰。
   入門填料被污染變質(zhì)所致。 用強(qiáng)溶劑沖洗。刮除被污染的床層，用同型的填料填補(bǔ)柱效可部分恢復(fù)。污染嚴(yán)重，則廢棄或重新填裝。 
5、新柱接到儀器上后，柱頭漏液。
   柱接頭與儀器之間連接管的壓環(huán)變形量不夠。 用扳手順時(shí)針方向擰緊1／4圈直到不漏液為止。
6、新柱接到儀器上后，啟動儀器沒有柱壓降。
   柱放置時(shí)間過長柱內(nèi)充裝的液體己揮發(fā)干。 繼續(xù)開泵，用流動相將柱內(nèi)氣體置換掉。
7、新柱接到儀器上后，檢測器出口不斷有小氣泡出現(xiàn)。
   流動相脫氣不*特別是MeOH／H20體系由于氫鍵作用很容易出現(xiàn)氣泡。
   配好流動相后一定要進(jìn)行脫氣處理。 
8、新柱接到儀器上后柱壓降不斷增加，甚至超過儀器的耐壓限。
   柱入口濾片被固體顆粒堵塞（或被毒菌堵塞）。更換或清洗柱入口濾片；用0．45µm過濾膜過濾流動相除去微小顆粒物。 
9、進(jìn)樣次數(shù)增加柱壓降逐漸增加。
  ①樣品中含有不溶于流動相的微小顆粒物。②樣品在流動相中析出微小結(jié)晶。 
10、使用—段時(shí)間后，柱效下降，分離不好。
    ①柱填料被流動相溶解而流失。②柱填料被樣品雜質(zhì)污染。
    ①推薦使用予柱。如柱床層塌陷，用相同型號填料填補(bǔ)。②推薦使用保護(hù)柱或用強(qiáng)溶劑沖洗色譜柱除去污染雜質(zhì)。 
11、柱使用一段時(shí)間后，柱效下降出現(xiàn)雙峰。`
    柱入口床層被污染使柱填料變質(zhì)。 用強(qiáng)溶劑沖洗除去雜質(zhì)。 
12、柱使用—段時(shí)間后，柱效下降，出現(xiàn)峰拖尾。
    柱入口床層被污染。 用強(qiáng)溶劑沖洗20-30ml，若效果不明顯應(yīng)廢棄。
13、進(jìn)樣量增大與峰面積增加不成正比．即進(jìn)樣量與峰面積不是線性關(guān)系。
    樣品在流動相中的溶解度小，只有部分樣品被流動相沖如色譜柱中而另一部分則沉積在柱人口端。
    ①用流動相溶解樣品。②樣品的濃度不宜太大。④進(jìn)樣量不宜過大。
14、使用緩沖液作流動相時(shí)，柱壓降升高很快。
    霉菌生長所致。 ①在流動相中加入有毒物質(zhì)或加疊氯化鈉防止霉菌生長。②實(shí)驗(yàn)結(jié)束后先用純水后用MeOH各沖洗20-30ml后關(guān)機(jī)。 
15、用5µm顆粒填料柱時(shí)， 以MeOH／H20作流動相柱壓較高。
    MeOH與水之間由于氫鍵作用黏度增大。 可用乙腈／水體系使柱壓降低，分離效率更好。
16、長時(shí)間放置的色譜柱，出現(xiàn)雙峰。
    柱床層出現(xiàn)干裂。 柱放置時(shí)，使用相應(yīng)的溶劑充填好，防止受大的機(jī)械震動，如床層干裂應(yīng)廢棄掉。 
17、流動相洗滌強(qiáng)度由弱漸強(qiáng)時(shí)出現(xiàn)很多雜質(zhì)峰。
    強(qiáng)溶劑將弱溶劑洗不出的雜質(zhì)沖出來。 不影響柱的性能。
18、柱使用一段時(shí)間后保留值逐漸縮短。
    柱中固定相流失所致。 ①更換色譜柱。②檢查所用的色譜條件是否合適。 
19、在色譜圖中，近死時(shí)間處出現(xiàn)負(fù)峰。
    ①進(jìn)樣時(shí)壓力波動所致。②樣品溶劑比流動相的吸收值低。
    ①采用閥進(jìn)樣。  ②用流動相溶解樣品。

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